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Title: Uhv Cluster For Pulsed Laser Deposition And Sputtering Of Epitaxial Quantum Materials (pld-sp-cl) description: Das Physik-institut Plant Die Beschaffung Eines Uhv-clusters Für Gepulste Laserabscheidung Und Sputtern (pld-sp-cl) Von Epitaktischen Heterostrukturen Mit Monolagen-präzision. Das System Wird Die Materialsynthese Auf Oxid-substraten Mit Einer Fläche Von Bis Zu 10 X 10 Mm² Ermöglichen. Die Pld- Und Sputterkammern Müssen Basisdrücke < 10⁻⁷ Mbar Aufweisen Und Über Eine Schleusenkammer Für Einen Schnellen Probenaustausch Zugänglich Sein. Die Pld- Und Sputterkammern Müssen Für Den Probentransfer Im Vakuum Miteinander Verbunden Sein. Die Pld Muss Über In-situ Rheed Zur Wachstumsüberwachung Verfügen Und Substrat-temperaturen Von Mindestens 950°c Ermöglichen. Die Sputteranlage Ermöglicht Das Dc-magnetron-sputtern Bei Einer Substrattemperatur Von Bis Zu 700°c. Das System Muss Mit Der Verwendung Von Flag-style-type- Probenträgern Und Dem Transfer Zu Einem Extern Bereitgestellten Vakuumkoffer Für Den Transport Zu Anderen Ex-situ-charakterisierungsgeräten Kompatibel Sein. The Physics Institute Plans The Procurement Of A Uhv Cluster For Pulsed Laser Deposition And Sputtering (pld-sp-cl) Of Epitaxial Heterostructures With Monolayer Precision. The System Will Enable Materials Synthesis On Oxide Substrates Up To 10 X 10 Mm² In Area. The Pld And Sputter Chambers Must Have Base Pressures < 10⁻⁷ Mbar, And Must Be Accessible Through A Loadlock Chamber For Rapid Sample Exchange. The Pld And Sputter Deposition Chambers Must Be Interconnected For In-vacuum Sample Transfer. The Pld Must Have In-situ Rheed For Growth Monitoring And Allow Substrate Temperatures Up To At Least 950°c. The Sputter Will Allow For Dc Magnetron Sputtering At Substrate Temperature Up To 700°c. The System Must Be Compatible With The Use Of Flag-style-type Sample Carrier Plates And Transfer To An Externally Provided Vacuum Suitcase For Transport To Other Ex-situ Characterization Tools.